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Hitachi

株式会社日立プラントサービス

半閉止板式滞留域低減システム

必要エリアの清浄度を確保しつつ、クリーンルームの低コスト化、省エネルギー化を実現します。

概要

クリーンルーム空気の一部を通風抵抗体を通して天井チャンバ内に戻すことにより、天井閉止パネル直下に形成される滞留域を効率よく低減し、少ないファンフィルタユニットで清浄空間を効率的に形成します。

特長

  • クリーンルーム室内気流の滞留抑制
  • 実効換気回数の低減
  • ファンフィルタユニット(FFU)設置台数の削減

(当社比)

写真:半閉止板
半閉止板

システム概要

画像:半閉止板式滞留域低減システムのシステム概要

局所清浄化技術(ミニエンバイロメント)

製品周りの局所空間のみを高清浄にし、クリーンルーム全体の清浄度を緩和することによって、投資の抑制やランニングコストの低減を図ることができます。

技術構成

  1. ミニエンバイロメント(囲われた清浄空間)を活用し、クリーンルームのミニマム化によるコスト低減をご提案します。(本方式による国内初の300Φウェーハ半導体製造クリーンルームを施工。)

    画像:局所清浄化技術における技術構成イメージ

  2. アイリッド(垂れ壁)や拡散型吹出口を適正に配置した局所清浄型クリーンルームをご提案します。

    画像:アイリッド(垂れ壁)を設置した際の気流可視化実験
    アイリッド(垂れ壁)を設置した際の気流可視化実験

    画像:拡散型吹出口を設置した際の気流可視化実験
    拡散型吹出口を設置した際の気流可視化実験

局所清浄化と評価技術

シミュレーションによる気流解析と気流可視化実験により適切な局所清浄化を図ります。

画像:局所清浄化と評価技術

リターンダクトレス・クリーンルーム

クリーンルーム面積を拡大し、生産エリアを拡げることによって工場の生産効率向上を図ります。

概要

最先端の半導体量産ライン向けに、リターンダクトを無くしてもクリーンルーム内の清浄度、温度分布を満足できるリターンダクトレス・クリーンルームを開発しました。リターンダクトで占有されていたエリアも生産エリアとして利用できるため、面積効率の良いクリーンルームが構築できます。

特長

  • アイリッドとミニエンバイロメントの配置による気流制御。
  • 室内の顕熱を天井側の顕熱処理コイルで除去。

システムの概要

画像:従来のクリーンルーム方式
従来のクリーンルーム方式

画像:リターンダクトレス・クリーンルーム方式
リターンダクトレス・クリーンルーム方式

画像:速度ベクトル表示

画像:速度分布表示

適用分野

  • 300φウェーハ対応半導体工場 他